Categoria
Produzione di gas criogenico a basso consumo energetico Unità di separazione dell'aria Generatore di ossigeno ad azoto liquido per lo stoccaggio di fluidi
Panoramica Attrezzatura per ossigeno liquido ultrapuro per la separazione criogenica dell'aria Descrizione del prodotto
Overview
Informazioni basilari.
Modello numero. | 1Nm3/H-10000Nm3/H |
Condizione | Nuovo |
Certificazione | ISO, GB |
Voltaggio | 380/220V 50Hz o Personalizzato |
Punto di vendita principale | Risparmio energetico/alta efficienza |
Gas grezzo | Fermentazione/Forno per calce/Prodotti chimici/Gas di combustione |
Tasso di produzione | 100kt/anno |
Pacchetto di trasporto | Cassa o contenitore in legno |
Marchio | WOBO |
Origine | Cina |
Codice SA | 8419609090 |
Capacità produttiva | 100 set/anno |
Descrizione del prodotto
Apparecchiatura per ossigeno liquido ultrapuro per la separazione criogenica dell'ariaDescrizione del prodotto
Le nostre apparecchiature di separazione criogenica sono progettate specificamente per fornire ossigeno liquido ultrapuro, soddisfacendo i severi requisiti di vari settori come quello sanitario, aerospaziale e delle applicazioni industriali. Le nostre apparecchiature utilizzano una tecnologia criogenica avanzata per garantire processi di separazione efficienti e affidabili, producendo ossigeno liquido di alta qualità. A seconda della capacità di produzione del liquido e del rapporto di ossigeno, utilizziamo processi come la purificazione con setaccio molecolare a temperatura ambiente, la circolazione a bassa pressione con refrigerazione criogenica o la circolazione dell'aria a media pressione con refrigerazione ad espansione ad alta e bassa temperatura per ottenere una purezza dell'ossigeno liquido di oltre il 99,9999%.Processo tecnologico
Il processo di separazione criogenica nelle nostre apparecchiature inizia con l'immissione di aria contenente ossigeno. Le nostre apparecchiature specializzate per la separazione criogenica sono progettate per estrarre ossigeno liquido ultrapuro, rispettando i severi requisiti di settori come quello sanitario, aerospaziale e delle applicazioni industriali. Utilizzando la tecnologia criogenica avanzata, le nostre apparecchiature garantiscono processi di separazione efficienti e affidabili, con conseguente produzione di ossigeno liquido di alta qualità. Il processo specifico impiegato dipende dalla capacità di produzione del liquido e dal rapporto di ossigeno. In un metodo, utilizziamo la purificazione con setaccio molecolare a temperatura ambiente. Ciò comporta il passaggio dell'aria attraverso un setaccio molecolare, che assorbe selettivamente le impurità e consente il passaggio dell'ossigeno, ottenendo ossigeno purificato. Un altro metodo prevede la circolazione a bassa pressione combinata con la refrigerazione criogenica. Qui l'aria viene sottoposta a bassa pressione e poi raffreddata a temperature criogeniche mediante sistemi di refrigerazione. Il raffreddamento fa sì che l'ossigeno si condensi allo stato liquido, che viene poi separato dai gas rimanenti. Per alcune applicazioni, utilizziamo un metodo di circolazione dell'aria a media pressione combinato con la refrigerazione ad espansione ad alta e bassa temperatura. In questo processo, l'aria viene fatta circolare a una pressione media e quindi sottoposta ad espansione ad alta e bassa temperatura utilizzando meccanismi di refrigerazione. L'ossigeno si liquefa durante le fasi di espansione e viene successivamente separato dagli altri componenti. Indipendentemente dal processo specifico utilizzato, le nostre apparecchiature di separazione criogenica garantiscono che l'ossigeno liquido risultante raggiunga uno stato ultrapuro con un livello di purezza superiore al 99,9999%. Questo livello di purezza è essenziale per le applicazioni che richiedono impurità minime e richiedono la massima qualità di ossigeno liquido. Con le nostre apparecchiature di separazione criogenica all'avanguardia, le industrie possono fare affidamento su una fornitura costante e affidabile di ossigeno liquido ultrapuro, soddisfacendo i loro rigorosi requisiti per varie applicazioni critiche.0.003μm/td> | ||